掩膜板性能作用

掩模版是器件或部分器件的物理表示  。掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模版上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形投射在光刻胶上 [2] 

中文名掩模版外文名Mask

每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。

掩模和光刻工艺是很关键的，因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线，电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝光 [1] 。

掩模版的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模版作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模版上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后投射在晶圆表面。为了区别于接触式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又称为倍缩式掩模

1.有耐腐蚀性、抗锈蚀性等优良性能。

2.更具环保、节能和卫生三大特点，的生产无溶剂和废气的排出，对环境污染更少，节约能源更显著。

3.更具稳定性。相对于木质板材来讲，更具防潮性，耐久性更强，而且更加稳定，不易发生变形等。

未来随着开发技术的做不提升，以及客户和消费者的个性化需求，将会越来越多样化、功能化，势必会有更加广泛的应用。